A beszerzés leírása
A teljes kiépítésben, minden további kiegészítő nélkül alkalmasnak kell lennie SEM üzemmódban másodlagos és visszaszórt elektron (SE és BE) felvételek készítésére, valamint rendelkezzen pásztázó transzmissziós elektronmikroszkópiai (STEM) üzemmóddal. FIB üzemmódban alkalmasnak kell lennie nanomegmunkálásra külső fájlok alapján is (pl.: .bmp, .gdsII), Pt-leválasztásra és legfeljebb 20 nm vastag, műtermék mentes TEM-lamella készítésére.
Követelmények:
— termikusan segített téremisszión alapuló Schottky-emitter elektronforrás (0,35 keV-30 keV sugárenergia; maximális sugáráram legalább 100 nA)
— nem-immerziós elektron optika, mágneses minták vizsgálatát lehetővé tevő elektrosztatikus lencse
— SE térbeli képfelbontás optimális mintatávolságnál, minta előfeszítés nélkül legalább: STEM 0,9 nm 30 keV-en, SEM 2,0 nm 1 keV-en (vagy jobb, azaz ennél kisebb érték)
— pásztázási sebességtartomány: minimum 25 ns/pixel - 10 ms/pixel, drift korrekció lehetősége mind SEM, mind FIB üzemmódban
— Ga-ion ágyú (0,5 keV-30 keV; maximális sugáráram legalább 65 nA) legalább 1000 (egyezer) üzemóra élettartammal
— FIB-képen elérhető térbeli felbontás: legalább 3,0 nm (vagy ennél jobb, azaz kisebb érték),
— olajmentes vákuumrendszer
— mintakamrába integrált plazma-tisztító
— minimálisan x=y=100 mm; z=50 mm motorizált mozgatást lehetővé tevő eucentrikus mintaasztal, legalább öttengelyű, motorizált mintamozgatással, -4-70 közti döntést és 0-360 közti forgatást biztosítva legalább 12 mm x 12 mm-es, illetve annál nagyobb mintákra
— mintatartó TEM lamellákhoz
— áramkimaradás ellen védő rendszer (szünetmentes tápegység)
— a mintakamrát mutató kamera
— integrált áram mérés (akár elektron-, akár ion-áram mérése)
— a műszernek alkalmasnak kell lennie TEM-lamella készítésére
O gázbevezető Pt-leválasztáshoz
O nanomanipulátor, amelynek alkalmasnak kell lennie a TEM-lamella kivételére
O STEM detektor
— a rendszerhez tartozó szoftver lehetővé teszi az ionnyalábbal történő megmunkálás folyamatának megtervezését a kialakítandó struktúrák paramétereinek figyelembevételével (a rendszert vezérlő számítógéptől eltérő számítógépen is), vezérli az ionnyalábos nanomegmunkálási eljárást, illetve az elektronmikroszkópos képalkotást
— üzembe helyezés a gyári és a helyszíni installáláshoz kapcsolódó átvételi tesztekkel (FAT és SAT) igazolt módon. Az átvételi tesztek tartalma: maximális felbontást demonstráló mintázat ionnyalábbal történő írása, TEM-lamella készítésének demonstrálása, minta vágás demonstrálása legalább 2 felhasználó által biztosított minta esetén,
— betanítás, kalibrálás, karbantartás, szoftverfrissítés a minimálisan vállalandó 24 hónap jótállási időszak ideje alatt
A műszaki leírás szerinti betanítási szolgáltatást 2x8 órás időkeretben 3 fő részére kell nyújtani.