A beszerzés leírása
Minimumkövetelmények:
Elektronforrás: Az elektronágyú Schottky téremissziós katód, melynek gyorsítófeszültsége minimum 500 V-tól30 kV-ig állítható, a nyalábáram pedig legalább 10 pA 100 nA között szabályozható.
Oszlop: Az elektronoszlop objektívlencséje vagy teljesen mágneses mező-mentes, vagy van ilyen üzemmódja is, így mágneses minták mérése a mikroszkópban megoldott. Az oszlop felbontása 15 kV gyorsító feszültségnél 1 nm vagy jobb (kisebb), 1 kV gyorsító feszültségnél (nyaláblassítás nélkül) pedig 1,8 nm vagy jobb (kisebb) SE detektorral mérve. Manuális és autofókusz lehetőség.
Kamra: Legalább 18 „accessory port”-al ellátott nagyméretű mintakamra, ami infravörös CCD kamerával ellátott a minta / mintakamra valós idejű megfigyeléséhez mérés közben. Van integrált plazmatisztító. Mintaáram mérési lehetőség megoldott.
Vákuumrendszer: Teljesen olajmentes vákuumrendszer.
Mikroszkóphűtés: Víz-levegő hűtés.
Asztal: Teljesen motorizált legalább 5-tengelyes mintaasztal. Minimum 100x100 mm-es mozgású (x-y)mintaasztal, a z-irányú mozgatás legalább 50 mm. Az asztal 360-ban forgatható, a döntés legalább -4-tól+70-ig megoldott. A mintaasztal legalább 0,5 kg-os minták mozgatására alkalmas.
Mintatartók: A műszer kapacitását optimálisan megvalósító mintatartók, amik lehetővé teszik az elektronmikroszkóp és a lézeres vágóegység funkcióinak kihasználását.
Detektorok: 4 csatornás detektorjel erősítő rendszer, amivel lehetőség nyílik egyszerre négy detektorjel megfigyelésére élőképen, valamint ezen képek rögzítésére.
Fókuszált ion- vagy plazmanyaláb: Vagy fókuszált folyékony gallium ion, vagy fókuszált xenon plazma nyalábhasználata. Ionsugaras képalkotás esetén a képszélesség legalább 580x580 μm (vagy nagyobb) a koincidenciapontban (fókuszált ionnyaláb és elektronnyaláb koincidencia pontjában). Lehetőség komplex alakzatok megmunkálására, és a nyaláb mozgatási sebességének változtatására, legalább 25 ns-tól 25 ms-ig / pixel ionsugaras megmunkálás esetén.
Nanomanipulátor: Lehetőség in-situ mintamanipulálásra, kivágott mintadarabok kiemelésére, mintatartón történő precíz elhelyezésére beleértve TEM lamellák kezelését is. Élőképen történő kattintással is vezérelhető mozgatás. x-y-z mozgatás megoldott. Legkisebb lépésköz legfeljebb 400 nm (x-y-z).
Segédgáz befecskendezés: Több (legalább 3 db) segédgáz bevezetésére alkalmas gázvivő rendszer,ahol legalább 1 gázcsatorna hűtött és minimum 2 csatorna fűthető, vagy két darab egy-egy (Pt és C) gázbevezetésére alkalmas rendszer. A rendszer felszerelt levegőszűrővel a gázbefecskendező rendszerből felszabaduló veszélyes gázok megkötésére. Motorizált x-y-z irányú mozgatással ellátott gázfecskendő tű.Minimálisan 1 db szén és 1 db platina gáz befecskendezéséhez szükséges prekurzorok. Integrált állítható töltődéskompenzáció N2 gázzal, vagy ha ilyen nincs, akkor a töltéskompenzáció szoftveresen vezérelt elektronnyalábbal megoldott.
Lézeres vágás: A lézeres vágás korrelatívan megoldott az elektronmikroszkóp képei alapján (legalább 20 μm, vagy pontosabb Ga-ionnyalábbal szállított gép esetén, vagy legalább 50 μm, vagy pontosabb Xe-plazmanyalábbal szállított gép esetén). Ez a korrelatív pontosság vízszintes mintatartók (SEM-ben és alézerkamrában) esetén értendő.
Számítógép, kijelző, kontroll felület és szoftverek, a használathoz szükséges asztal és székek az optimális kezeléshez.
A leszállított eszközt be kell üzemelni.
Betanítás: 5 napos betanítás az eszköz használatába a helyszínen 3 fő részére, valamint 3 napos tréning az EDS/EBSD rendszer használatába a helyszínen, vagy erre megfelelő laboratóriumban.
Ajánlatkérő új eszköznek azt tekinti, amelyet a legyártást követően nem használtak, nem üzemeltek be, azt bemutató, illetve próbaeszközként sem használták.
A nyertes ajánlattevő köteles a készülék gyártója által minősített szervizhátteret biztosítani.