A beszerzés leírása
Beszerzés tárgya: 1 darab teljesen automatizált röntgen-fotoelektron spektroszkóp (X-ray Photoelectron Spectroscope - XPS) rendszer, amely rendelkezik elektron analizátorral, magas dinamikatartományú többcsatornás számlálással, kiemelkedő energia- és szögfelbontással, nagy fluxusú röntgenforrással, nagypontosságú minta manipulátorral, vákuumkamrával és szivattyúzással ultramagas vákuumú nyomásviszonyokhoz, töltéskompenzációval, gyors mintabeviteli kamrával, és úgy van kialakítva, hogy lehetővé teszi a rendszer jövőbeli bővítését.
A rendszer minimális követelményei
Röntgenforrás
Monokromatizált röntgenforrás ultramagas vákuumos XPS alkalmazáshoz, kristály manipulátor három szabadsági fokkal, a monokromátor Rowland-kör átmérője kb. 250-500 mm, ultramagas vákuumú nagypontosságú manipulátor optimális forrás pozícionáláshoz. Legalább 120 W maximális teljesítmény, maximum 15 keV elektronforrás feszültség. Hosszú forrás és anód élettartam. Integrált biztonsági elektronika az operátor és berendezés védelmére.
Analizátor
Félgömb energiaanalizátor (Hemispherical Energy Analyzer), a folt mérete 100 μm alá csökkenthető.
Detektor
Legalább 106 dinamikatartomány, a max. számlálási ráta jobb, mint 12 Mcps és a számlálási ráta linearitás tartomány felső határa jobb, mint 9 Mcps. Legalább 128 energia csatorna. Kevesebb, mint 25 cps zaj a teljes detektor területen. Áteresztési energia tartomány (pass energy range) legalább 5 - 400 eV (vagy szélesebb). Képesség nem destruktív mélységprofil készítésére.
Vákuumrendszer
A vákuum jobb, mint 5x10-9 mbar 72 órás kiégetés és 48 órás hűtés után. Turbó-molekuláris szivattyú min. 260 l/s szivattyúzási sebességgel, olajmentes elővákuum rendszerrel összekapcsolva. Nyomásmérő méréstartománya 1x10-10 és 1x10-3 mbar között. Távoli vezérlés és kiolvasás a teljes vákuumrendszerhez.
Minta bevitel és betöltés
Gyors mintabeviteli kamra, manuális vagy automatizált mintabetöltés a mérőkamrába, a „load lock” alapnyomása jobb, mint 1x10-7 mbar.
Minta manipuláció
Teljesen automatizált, motorizált mintamanipuláció a mérőkamrában, legalább 10 mm utazástáv X és Y irányban, legalább ±120° poláris rotációs tartomány, valamint a mintamagassághoz alkalmazkodó Z utazási távolság. Mintatartó (stage) nem mágneses anyagokhoz megfelelő mintapolarizációval (sample bias).
Minta tisztítás
Teljesen szoftver vezérelt sputter tisztító rendszer, extractor típusú ionforrásal, amely alkalmas inert gázokkal való működésre. Ionforrás sugárárama legalább 3,5 μA Argon gázzal. Ion energiatartomány felső határa legalább 4 keV. Megfelelő gázbeömlő rendszer magas pontosságú ultramagas vákuum gázbeömlő szeleppel és gázvezetékkel.
Töltéssemlegesítés
Flood gun típusú forrás általános mintatöltés semlegesítéshez, stabil elektronáram legalább 0,25 mA-ig, homogén áramsűrűség hatékony töltéssemlegesítéshez nagy mintaterületen, sugárnyaláb energia legalább 0 eV-tól 5 eV-ig (vagy szélesebb) tartományban szabályozható, teljesen számítógép vezérelt tápellátás kibocsátási áram szabályozással.
Hűtés
Zárt vízhűtő rendszer, vízszint érzékelő és vízszint figyelmeztetés, 230V/50Hz táplálású rendszer.
Számítógép
A kor igényeinek megfelelő munkaállomás többmagos processzorral, legalább 16 GB memóriával, legalább 512 GB SSD-vel és 500 GB merevlemezzel, legalább FullHD felbontású képernyővel és szükséges tartozékokkal (billentyűzet és egér).
Számítógépes vezérlés
Az adatrendszernek képesnek kell lennie a spot méretének, az analizátor és transzfer lencse összes beállításának, és az összes flood gun és/vagy ion gun beállításának a vezérlésére és automatikus rögzítésére. Az adatrendszernek képesnek kell lennie a mintaszínpad teljes vezérlésére többpontos elemzéshez, azimutális és koncentrikus mélységprofilozáshoz, vonal szkenneléshez és elemtérképek készítéséhezhez. A rendszer beépített rutinokkal rendelkezik a spektrométer teljesen automatizált kalibrációjához, röntgenfolt méretének méréséhez, valamint az ion forrás beállításához és kondicionálásához. A rutinokhoz tartozó indexált referenciaminták (Cu, Ag, Au) a rendszer részét képezik. A rutinoknak képesnek kell lenniük a referenciaminták automatizált pozícionálására és előkészítésére a kalibrációra szolgáló adatok begyűjtése előtt.
Szoftver
Teljesen integrált szoftver, teljes vezérlés minden automatizált rendszer felett, elemi XPS emissziós vonalak egyszerű azonosítása, egyszerűsített kvantitatív elemi összetétel és sztöchiometria elemzés, haladó kvantifikáció és többszörös görbeillesztés teljes felhasználói vezérléssel. Biztosítja a háttér levonás és a Mean Free Path számítások testreszabásának lehetőségét. Tartalmaz átfogó jelentéskészítő eszközt, beleértve a grafikonok testre szabását és exportálását, amely továbbá képes a teljes jelentés- és adatexportálásra minden általános formátumban (beleértve PDF, XLS és CSV).
Folytatás: KD Műszaki leírásban.