FESEM pásztázó elektronmikroszkóp

Rövid leírás

A beszerzés tárgya 1db fókuszált gallium ionsugaras pásztázó elektronmikroszkóp 3D funkciókkal, kiegészítőkkel együtt

Műszaki követelmények:

Elektronforrás:

- Schottky téremissziós katód

- Gyorsítófeszültség minimum 0.02 kV-tól 30 kV-ig állítható legfeljebb 10 Voltos lépésekben

- Nyalábáram: legalább 5 pA és 20 nA között szabályozható.

- Automatikus emitter felfűtési vezérlés és túláram-védelem

Elektronoptikai oszlop:

- Fejlett, alacsony gyorsítófeszültségű képalkotásra optimalizált elektronoptika

- Véglencse kialakítása: immerziós lencse nélkül, kizárólag mágneses és elektrosztatikus lencsék kombinálásán alapuljon

- Az elektronoszlop objektívlencséje teljesen mágneses mező mentes legyen, így a ferromágneses minták mérése a mikroszkópban megoldott.

- Rendelkezzen az elektronoptikai oszlopon belül, annak teljes hosszában legalább 8kV-os nyalábgyorsító és nyaláblassító funkcióval (beam-booster)

- Manuális és auto-fókusz lehetőség.

- Nagyítástartomány: min. 12x-2 000 000x (128x96mm referencia méret)

- Munkatávolság 1-50mm között állítható a gyorsítófeszültség értékének megfelelően.

- A nyalábáram stabilitása: az ingadozás 12h alatt kisebb, mint ±0.2%

Felbontás: Az alábbi feltételeknek optimális munkatávolság és a mintára vagy asztalra kapcsolt ellenfeszültség (sample bias/ stage bias) nélkül kell teljesülnie.:

30kV gyorsítófeszültségnél STEM módban min. 0.7nm

15kV gyorsítófeszültségnél min. 0.9nm SE módban

1kV gyorsítófeszültségnél min. 1,7nm SE módban

0.2kV gyorsítófeszültségnél min. 2,5nm SE módban

Fókuszált ionnyaláb (FIB):

- Fókuszált folyékony gallium ion forrás.

- gyorsítófeszültség 500 V és 30 kV között állítható

- mintaáram min. 1 pA és 100 nA között állítható

- Ionsugaras képalkotás esetén a képszélesség legalább 580x580 μm a koincidencia pontban (fókuszált ionnyaláb és elektronnyaláb metszéspontjában).

- Lehetőség komplex alakzatok és sebesség (legalább 25 ns-tól 25 ms-ig / pixel) megadására ionsugaras megmunkálás esetén

- Az ionnyaláb felbontása legalább 3 nm (vagy kisebb) legyen 30 kV gyorsítófeszültség esetén a koincidencia pontban.

- Az ionnyaláb felbontása legalább 50 nm (vagy kisebb) legyen 5 kV gyorsítófeszültség és 10pA nyalábáram esetén a koincidencia pontban.

- Az ionnyaláb felbontása legalább 150 nm (vagy kisebb) legyen 1 kV gyorsítófeszültség és 10pA nyalábáram esetén a koincidencia pontban.

- Legyen lehetőség teljesen egyidejű pásztázó elektronmikroszkópos képalkotásra az ionsugaras vágás közben

Kamra:

- Legalább 18 csatlakozó porttal ellátott nagyméretű mintakamra

- Infravörös CCD kamera a minta / mintakamra valós idejű megfigyeléséhez mérés közben

- Belső átmérő min. 330mm

- Légzsilip mintacseréhez, min. 100mm szélesség

árgyasztal:

- Teljesen motorizált legalább 6-tengelyes eucentrikus mintaasztal.

- Minimum 100x100 mm-es mozgású (X-Y) mintaasztal, a Z-irányú mozgatás legalább 50 mm.

- A tárgyasztal 360°-ban forgatható,

- A tárgyasztal legalább -4°-tól +70°-ig dönthető.

- A tárgyasztal legalább 0,5 kg-os minták mozgatására alkalmas.

- Rendelkezik beépített mintaáram mérő és érintkezés figyelmeztető rendszerrel

Vákuumrendszer:

- Teljesen automatikus vezérlésű vákuum rendszer többféle vákuum móddal

- Nagyvákuum mód minimum érje el a kamrában a 3x10-6 mbar-t

- Alacsony vákuum mód in-situ töltéskompenzációval megvalósítva

Mikroszkóp hűtés: Víz-levegő hűtés.

Mintatartók: A műszer kapacitását optimálisan megvalósító mintatartók, amik lehetővé teszik az elektronmikroszkóp vágóegység funkcióinak kihasználását.

Detektorok:

- A mintakamrában elhelyezett Everhart-Thornley szekunderelektron (SE) detektor,

- Visszahúzható nagyérzékenységű, legalább ötszegmenses szögérzékeny szilárdtest BSE (visszaszórt elektron) detektor, ahol a szegmensekről származó jelek tetszőlegesen keverhetők,

- A BSE detektor rendelkezzen kiegészítő 3D képalkotási móddal.

- Az elektronoszlopban/objektívlencsében elhelyezett szekunder elektron szcintillátor detektor, amivel SE jelek detektálhatók.

Továbbiak AF és KD-ban.

További információk

Ajánlatot az alábbi ajánlattevők nyújtottak be:

1. ajánlat

Ajánlattevő neve: Carl Zeiss Technika Kft.

Ajánlattevő székhelye: 2040 Budaörs, Neumann János u. 3. 3.

Adószám:10548756-2-13.

ÁR kritérium

Egyösszegű ajánlati ár (nettó forintban megadva) 474 820 000,- Ft

Minőségi kritérium

1. Pásztázó rendszer jobb pixelfelbontása (értékelési tartomány: minimum 16k x 16 k - maximum 50k x 40k) 50k x 40k

2. Az eszköz felszerelt nagyméretű légzsilippel a mintacseréhez (értékelési tartomány: minimum 100 mm- maximum 130 mm) 130 mm

3. Az eszköz felszerelt lokális (in-situ), a fő kezelőszoftverbe integrált vezérlésű, max. 0.5 mm átmérőjű nitrogén és oxigén gázbevezető fúvókával, amely közvetlenül az elektronnyaláb becsapódási területére irányul, de visszahúzható (töltéskompenzációs és tisztítási funkciók). (Igen / Nem) Nem

4. A vizsgált felületek 3D rekonstrukciója kalibrált, legalább 250nm pontosságú, kvantitatív felületi modell előállítása a minta döntése, mozgatása vagy a scan terület eltolása nélkül. (Igen / Nem) Igen

5. Az eszköz felszerelt olyan kalibrált mérőrendszerrel, amely megmunkálással egyidejű pásztázó elektronmikroszkópos képalkotáson alapul és lehetővé teszi minden egyes vágási vastagság mérését, követését, naplózását és a vágási vastagság folyamat közbeni változtatását. (Igen / Nem) Igen

2. ajánlat

Ajánlattevő neve: Castell Nova Kereskedelmi és Szolgáltató Kft.

Ajánlattevő székhelye: 9423 Ágfalva Ipar utca 3. A ép.

Adószám:11903756-2-08.

ÁR kritérium

Egyösszegű ajánlati ár (nettó forintban megadva) 489 740 345,- Ft

Minőségi kritérium

1. Pásztázó rendszer jobb pixelfelbontása (értékelési tartomány: minimum 16k x 16 k - maximum 50k x 40k) 50k x 40k

2. Az eszköz felszerelt nagyméretű légzsilippel a mintacseréhez (értékelési tartomány: minimum 100 mm- maximum 130 mm) 100 mm

3. Az eszköz felszerelt lokális (in-situ), a fő kezelőszoftverbe integrált vezérlésű, max. 0.5 mm átmérőjű nitrogén és oxigén gázbevezető fúvókával, amely közvetlenül az elektronnyaláb becsapódási területére irányul, de visszahúzható (töltéskompenzációs és tisztítási funkciók). (Igen / Nem) Nem

4. A vizsgált felületek 3D rekonstrukciója kalibrált, legalább 250nm pontosságú, kvantitatív felületi modell előállítása a minta döntése, mozgatása vagy a scan terület eltolása nélkül. (Igen / Nem) Igen

5. Az eszköz felszerelt olyan kalibrált mérőrendszerrel, amely megmunkálással egyidejű pásztázó elektronmikroszkópos képalkotáson alapul és lehetővé teszi minden egyes vágási vastagság mérését, követését, naplózását és a vágási vastagság folyamat közbeni változtatását. (Igen / Nem) Igen

Ajánlatkérő rögzíti, hogy a jelen tájékoztató feladására adminisztratív okokból került sor három munkanapon túl, ellentétesen a Kbt 37.§ (2) bekezdésében foglaltakkal.